年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔泛的。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚板、平显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热玥定应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剤。

Ang nitrogen trifluoride, chemical formula na NF3, ay isang malakas na oxidizing agent. Bilang isang mahalagang pang-industriya na espesyal na gas, mayroon itong malawak na hanay ng mga aplikasyon.
Sa industriya ng microelectronics, ang nitrogen trifluoride ay isang mahusay na plasma etching gas; Sa semiconductor chip, flat panel display, optical fiber, photovoltaic cells at iba pang manufacturing field, nitrogen trifluoride ay pangunahing ginagamit bilang plasma etching gas at reaction cavity cleaning agent.
Maaari rin itong magamit sa mga high-energy na kemikal na laser upang makamit ang aplikasyon nito sa pamamagitan ng pagtugon sa hydrogen upang maglabas ng malaking halaga ng init sa isang iglap. Ginagamit din ang nitrogen trifluoride bilang high-energy fuel at bilang oxidizer at propellant sa mga paglulunsad ng rocket.